オゾン水生成機器

オゾン水洗浄 概要

  • コスト低減既存薬液からオゾン水への代替
  • プロセス性能向上
    半導体ウエハ洗浄 パーティクル、金属、有機物等不純物の除去
    太陽電池パネルでの発電効率アップ 良好テクスチャー形成、不純物除去など
  • 環境負荷低減 (環境フレンドリー)
    薬液排出の低減化によるゼロエミッション化

オゾンガス生成原理

石英ガラス2重管の間隙に生じさせた細かい無数の放電(無声放電)の中へ原料ガス(酸素、空気)を流すことにより、原料ガス中にオゾンを発生さる。接ガス部が全て石英のため、金属コンタミがありません

特長

  • オゾンの濃度が高い
  • オゾン水中に金属不純物  半導体、液晶、太陽電池などのクリーン仕様
  • オゾン濃度の立ち上がりが早い  約1分以内で最大オゾン濃度に到達
  • 機器が小型  幅600mm×奥行600mm×高1300mm (25ppm、5L/min仕様)
  • 他社に比較して格安

用途

  • 半導体(洗浄)
  • FPD、液晶(洗浄)
  • MEMS、センサー(洗浄)
  • ハードディスク(洗浄)
  • 太陽電池(洗浄)
  • 医療(手洗い、精製水配管洗浄)
  • 食品(手洗い、殺菌、脱臭)

オゾン水使用による洗浄のメリット

  • 既存薬品の削減
  • 良好な洗浄能力(パーティクル、金属コンタミ、有機物の除去)

推奨処理レシピ

※洗浄装置は枚葉式スピン装置を使用

製品ラインナップ

用途特徴オゾン濃度
(ppm)
オゾン水流量
(L/min)
納期
・液晶(有機物除去用)

・半導体
(金属、パーティクル、有機物除去)

・太陽電池
(有機物除去、パーティクル除去)

・MEMS部品、センサーなど
(有機物、パーティクル、金属除去)
・クリーン仕様(メタルフリー)

・高濃度・高流量までカバー

・濃度安定性

・コストパフォーマンス
30~最大80
5
1~2.5ヶ月
10
20
30
60
5~20
5
10
30
60

製品情報

オゾン水濃度: 25ppm
オゾン水流量:5L/min

オゾン水濃度:100ppm
オゾン水流量:20L/min

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