オゾン水洗浄 概要
- コスト低減 ▶ 既存薬液からオゾン水への代替
- プロセス性能向上
半導体ウエハ洗浄 ▶ パーティクル、金属、有機物等不純物の除去
太陽電池パネルでの発電効率アップ ▶ 良好テクスチャー形成、不純物除去など - 環境負荷低減 （環境フレンドリー）
薬液排出の低減化によるゼロエミッション化
オゾンガス生成原理
石英ガラス2重管の間隙に生じさせた細かい無数の放電（無声放電）の中へ原料ガス（酸素、空気）を流すことにより、原料ガス中にオゾンを発生さる。接ガス部が全て石英のため、金属コンタミがありません。
特長
- オゾンの濃度が高い
- オゾン水中に金属不純物 ▶ 半導体、液晶、太陽電池などのクリーン仕様
- オゾン濃度の立ち上がりが早い ▶ 約1分以内で最大オゾン濃度に到達
- 機器が小型 ▶ 幅600mm×奥行600mm×高1300mm （25ppm、5L/min仕様）
- 他社に比較して格安
用途
- 半導体（洗浄）
- FPD、液晶（洗浄）
- MEMS、センサー（洗浄）
- ハードディスク（洗浄）
- 太陽電池（洗浄）
- 医療（手洗い、精製水配管洗浄）
- 食品（手洗い、殺菌、脱臭）
オゾン水使用による洗浄のメリット
- 既存薬品の削減
- 良好な洗浄能力（パーティクル、金属コンタミ、有機物の除去）
推奨処理レシピ
※洗浄装置は枚葉式スピン装置を使用
製品ラインナップ
| 用途 | 特徴 | オゾン濃度 (ppm) | オゾン水流量 (L/min) | 納期 |
|---|---|---|---|---|
| ・液晶（有機物除去用） ・半導体 （金属、パーティクル、有機物除去） ・太陽電池 （有機物除去、パーティクル除去） ・MEMS部品、センサーなど （有機物、パーティクル、金属除去） | ・クリーン仕様(メタルフリー） ・高濃度・高流量までカバー ・濃度安定性 ・コストパフォーマンス | 30～最大80 | ||
| ５～20 | ||||
製品情報
オゾン水濃度： 25ppm
オゾン水流量：５L/min
オゾン水濃度：100ppm
オゾン水流量：20L/min
